所有原本应该狂野乱窜的高频振荡项，在这些基底的正交性下被悄无声息地消去。
就像有一只手，从最底层的数学结构里，把湍流这只野兽按进了一个笼子。
主显示屏下方：
【曝光焦面偏差：-0.07nm】
【迭层对准误差：0.11nm】
【算法前馈响应时间：1.8μs】
0.11纳米的对准误差。
这个数字的意义，林伟看得懂，张默看得懂，舱里那十九个人都看得懂。
这已经是ASML最新一代NXE系列EUV光刻机的工程化水平。
而这，是一台浸没式DUV。
是他们用一台物理原理上低一个代的机器，靠着一套算法，硬生生把光刻精度拉到了高一个代际的水平线上。
“第七次了。”
有人在林伟身後低声说了一句。
“前六次都成功了。”
“这是第七次验证。”
“贺老说，要连续成功十次以上，才能算是……稳定落地。”
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